目标 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案，国内首条二维半导体工程化示范工艺线全线贯通

发布时间：2026-07-12 08:14:21 来源：挥洒自如网 作者：综合

IT之家 7 月 10 日消息，依赖艺线原集微科技宣布，光国产国内工程贯通7 月 9 日，刻机由原集微打造的实现首条世界首条 8 英寸二维半导体中试线正式启用，这是等效的全导体国内也是世界首条二维半导体工程化示范工艺线。

IT之家获悉，案范工该工艺线于今年 1 月实现点亮，维半仅半年多时间实现全部设备二次调试与工艺优化。化示区别于实验室小型试制平台，全线当前整条产线已具备完整流片与工程化试制能力，目标搭建起从材料制备到芯片集成的依赖艺线完整工程化链条。

原集微科技董事长包文中指出，光国产国内工程贯通依托二维材料原子级厚度的刻机天然优势，其无需依赖复杂的实现首条 FinFET 或环栅结构，即可实现晶体管的持续微缩。

今年下半年，团队将基于刚通线的 8 英寸中试平台，打通等效硅基 90nm 的工艺路径，推动二维半导体从实验室“手搓”器件向工业化标准设计迈进；目标在 2029 年不依赖 EUV 光刻机实现等效 5nm 的全国产方案。

此外，原集微正式发布基于其 8 英寸中试线平台的 500 纳米 PDK 0.1 版本，并同时启动代工流片业务。

据说明，该 PDK 面向高校和研究所科研客户，是二维半导体领域首个给予二维 PDK 并兼容当前主流 EDA 工具链的工艺 IP，包含 Pcell、DRC、LVS、PEX 等工具包，为客户给予了从设计到制造的全流程工具支撑。

该套工艺库良率大于 99.99%、各方面指标突破了二维半导体的国际纪录，基本接近硅基同等制程水准，未来可兼容 10 万管级二维电路设计和晶圆级制造。

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